主要技术参数:
1.镀膜室尺寸:1150×1200
2.真空系统:油扩散泵两台,2x-70升旋片泵一台,罗茨泵一台,2x-15升旋片泵一台
3.真空:5×10-4 pa
4.抽气时间:从大气抽至5×10-3pa小于20分钟(空载)
6.多弧源:8个×95,功率:8×2KW
7.磁控溅射平面靶(无)
8.磁控中频溅射圆柱靶2支×30KW
9.偏压:20KW
10.温度控制:用温控仪控制,热电偶测量炉内温度
11.真空室加热:6根加热管
12.工件转架:9轴公自转
14.设备总功率:80KW
15.设备总重量:约4T
16.设备总占地面积:16M2
17.使用220V/380V电压
18.用于冷却的水亦以软水为宜,水压为2kg/cm2
19.气源4-6kg/cm2,选用0.1立方的压缩机为宜
中频磁控溅射镀膜机可在塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材、电阻、电容、传感器等行业。
该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,可适应镀膜靶材,如:铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料,可利用溅射工艺进行镀膜,可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
此设备由东莞市远大真空技术有限责任公司提供,联系方式,胡远军I36 ooI7 9826







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周雪纯
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二手真空镀膜机,二手真空泵 |
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